ASML、TSMC・サムスン・インテルを囲い込み、ファーウェイは支配打破へ
ASML locks in TSMC, Samsung, and Intel while Huawei races to break its grip
記事のポイント
📰ニュース
ASMLが主要半導体メーカーを大型フォトマスクへ移行させ、EUV露光装置のスループットを向上させます。
🔍注目ポイント
大型フォトマスクの採用により、ASMLの最新EUV露光装置の生産能力が40%向上する技術的進歩です。
🔮これからどうなる
半導体製造の効率化が進み、高性能チップの供給安定化やコスト削減に繋がる可能性があります。
ASMLはTSMC、サムスン、インテルを説得し、より大きなフォトマスクへの切り替えを決定させました。
これにより、同社の最新EUV露光装置の処理能力が大幅に向上します。
一方、中国のファーウェイは、Yuliangshengなどの国内サプライヤーを通じてASMLへの依存を断ち切る戦略を進めています。
これにより、同社の最新EUV露光装置の処理能力が大幅に向上します。
一方、中国のファーウェイは、Yuliangshengなどの国内サプライヤーを通じてASMLへの依存を断ち切る戦略を進めています。
ASMLが半導体製造の効率をさらに高める動きは、私たちの使う電子機器の性能向上に直結しそうです。ファーウェイの動きも注目ですね。